Hệ thống quang khắc chùm electron ELS-ORCA

ELS-ORCA là hệ thống quang khắc bằng chùm tia điện tử ở điện áp 30 kV, có thể được tùy chỉnh với nhiều tùy chọn như:

• Điện áp gia tốc 50 kV

• Lấy nét động / chỉnh stigma

• Hệ thống cảm biến chiều cao hỗ trợ lấy nét tự động

Sự kết hợp của các tùy chọn này giúp ELS-ORCA trở thành một hệ thống linh hoạt, phù hợp với nhu cầu cụ thể của từng nhà nghiên cứu.

Phần mềm thân thiện với người dùng

Hệ thống ELS-ORCA được cài đặt sẵn phần mềm điều khiển mới có tên "elms" – một bộ công cụ toàn diện bao gồm:

• Chuyển đổi dữ liệu CAD

• Điều chỉnh chùm tia

• Phơi sáng (exposure)

• Quan sát bằng kính hiển vi điện tử quét (SEM)

Cấu trúc mô-đun giúp các chức năng cần thiết dễ tiếp cận hơn, cải thiện hiệu quả làm việc.
Tính năng quản lý tài khoản người dùng của elms cho phép phân quyền truy cập tùy theo từng người dùng cụ thể.

Tùy chọn giảm điện áp cho quan sát SEM

Tùy chọn làm chậm chùm tia (retarding) trên hệ thống ELS-ORCA hỗ trợ quan sát SEM với độ phân giải cao và ít gây hư hại mẫu.
Với điện áp gia tốc thấp tương đương hệ SEM chuyên dụng, ELS-ORCA có thể quan sát vùng mẫu lên tới 6 inch trên wafer 8 inch.

Ngoài ra, hệ thống còn hỗ trợ quan sát SEM tự động dựa trên dữ liệu CAD đã chuẩn bị sẵn cho quá trình phơi sáng.